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井式炉（可通气氛）
    发布时间: 2022-09-01 15:25    

本设备是由石英坩埚（或氧化铝陶瓷坩埚）和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。

 

型号

QSH-VCF-1200T

QSH-VCF-1400T

QSH-VCF-1600T

炉膛尺寸

O.D.205 x   I.D.190 x H340

O.D.160 x   I.D.140 x H200

O.D.150 x   I.D.130 x H200

最高工作温度

1200 ℃

1400 ℃

1600 ℃

工作温度

1100 ℃

1300 ℃

1500 ℃

加热元件

含钼电阻丝

硅碳棒

硅钼棒

控温方式

51段可编程自动控制

升温速率

0～20 ℃/分

温控精度

± 1℃

最大真空度

-0.1MPa

炉膛材料

氧化铝陶瓷纤维板

炉壳

双层风冷结构

额定电压

220V/380V 50/60Hz


备注：特殊规格可根据客户要求定制。


井式炉（可通气氛）


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